离子束刻蚀机, 离子蚀刻机 20IBE-J

簡介

适用于批量处理的大型科研离子束刻蚀机 IBE
满足 4寸, 6寸, 8寸多片材料刻蚀
基板数量尺寸: φ4 X 12枚, φ6 X 8枚(可根据器件大小定制载台)
配置 20cm 考夫曼离子源
配置公转自转传输机构 ”Dry Chuck Planet ”, 使得样品可以得到比较均匀平滑的表面
均匀性: ≤±5%
可选配美国 KRi 离子源或终点检测(监测当前气体成分, 监控刻蚀制程).

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技术规格

上海伯东日本原装进口 NS 离子束刻蚀机 20 IBE-J, 大口径基板尺寸, 适用于实验室批量处理的大型干法刻蚀机, 离子束刻蚀机 20 IBE-J 满足 4寸, 6寸, 8寸多片材料刻蚀. 采用自研公转自转传输机构 ”Dry Chuck Planet ”, 使得样品可以得到比较均匀平滑的表面. 刻蚀均匀性 ≤±5%. 离子束刻蚀机 20 IBE-J可选配美国 KRi 离子源或终点检测(监测当前气体成分, 监控刻蚀制程).

离子束刻蚀机 20 IBE-J 基本参数

型号	20 IBE-J	Φ4 inch X 12片	可选
应用	适用于批量处理的实验室研发
内置	考夫曼型离子源(或根据需求选择射频离子源)
基板尺寸	φ4 inch X12片 φ6 inch X 8片(可根据器件大小定制载台)
均匀性	≤±5%
刻蚀速率	硅片 20 nm/min
工艺气体	Ar, O₂, N₂
样品台	直接冷却（水冷）0-90 度旋转

离子束刻蚀机 IBE 特性:
1. 干法刻蚀, 物理蚀刻, 纳米级别的刻蚀精度
2. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状
3. 基板直接加装在直接冷却装置上,可以在低温环境下蚀刻.
4. 配置公转自转传输机构 ”Dry Chuck Planet ”, 使得样品可以得到比较均匀平滑的表面. 刻蚀均匀性 ≤±5%
5. 几乎满足所有材料的刻蚀, IBE 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料
6. 可选配德国 Pfeiffer 分子泵和旋片泵
7. 机台设计使用半自动化(手动放置样品)操作流程

Hakuto 日本原装设计制造离子束刻蚀机 IBE (离子蚀刻机) 提供 4英寸, 6英寸, 8英寸干法, 纳米级别材料的表面刻蚀, 刻蚀均匀性 ≤±5%. 几乎满足所有材料的刻蚀. 例如磁性材料, 黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 广泛应用于 RF 射频器件, MEMS 传感器, 磁性器件 …, 满足研发和量产需要. IBE 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料.

伯东公司超过 50年的离子刻蚀市场经验, 拥有庞大的安装基础和经过市场验证的刻蚀技术!