KRi 考夫曼离子源

1978 年 Dr. Kaufman 考夫曼博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. KRi 离子源在真空环境中实现薄膜沉积, 干式纳米刻蚀和修改材料表面性能.

在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, 具有原子级控制的材料和表面特征.

美国 KRi 离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理.

考夫曼离子源创始人 Dr.Harold R.Kaufman
Kaufman 博士 1926年在美国出生, 1951年加入美国 NASA 路易斯研究中心, 60年代考夫曼博士发明了电子轰击离子推进器并以他的名字命名(考夫曼推进器). 1969年美国航空航天学会 AIAA 授予他 James H. Wyld 推进奖, 1970年考夫曼推进器赢得了IR 100 (前身研发100奖), 1971年考夫曼博士获得美国宇航局杰出服务奖.
2016年, 美国 NASA 宇航局将 Harold Kaufman 博士列入格伦研究中心名人堂

1978 年 Kaufman & Robinson, Inc 公司成立
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国科罗拉多州的柯林斯堡创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 简称 KRI, 研发生产商用宽束离子源和电源控制器. 为世界各地的高科技企业,真空系统设备商和研究机构提供先进的解决方案. 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
Dr. Kaufman 博士
KRI 离子源主要产品
上海伯东美国 KRI 离子源是以真空为基础的加工工具, 在原子水平上与材料相互作用, 适用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 等, KRI 提供无栅极离子源和栅极离子源, 类型包含考夫曼离子源, 霍尔离子源, 射频离子源和电源控制器, 共计超过 25种规格, 全球累积销售 3500+ 台!
KRI 离子源
射频离子源 RFICP 系列技术规格:

型号	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 阳极	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频
离子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
离子动能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
栅极直径	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	20 cm Φ	30 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
长度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直径	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

考夫曼离子源 KDC 系列技术规格:

型号	KDC 10	KDC 40	KDC 75	KDC 100	KDC 160
Discharge 阳极	DC 电流	DC 电流	DC 电流	DC 电流	DC 电流
离子束流	>10 mA	>100 mA	>250 mA	>400 mA	>650 mA
离子动能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
栅极直径	1 cm Φ	4 cm Φ	7.5 cm Φ	12 cm Φ	16 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	1-5 sccm	2-10 sccm	2-15 sccm	2-20 sccm	2-30 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
长度	11.5 cm	17.1 cm	20.1 cm	23.5 cm	25.2 cm
直径	4 cm	9 cm	14 cm	19.4 cm	23.2 cm
中和器	灯丝

霍尔离子源 eH 系列技术规格:

型号	eH 400	eH 1000	eH1000 xO2	eH 2000	eH 3000
Cathode/Neutralizer	F or HC	F or HC	F or HC	F or HC HC HC	HC
阳极电压	50-300V 30-150V	50-300V 30-150V 50-300V	100-300V	50-300V 30-150V 50-250V	50-250V 50-300V 50-250V
电流	5A 10A	10A 12A 5A	10A	10A 15A 15A	20A 10A 15A
散射角度	>45	>45	>45	>45	>45
气体流量	2-25sccm	2-50sccm	2-50sccm	2-75sccm	5-100sccm
高度	3.0“	4.0“	4.0“	4.0“	6.0“
直径	3.7“	5.7“	5.7“	5.7“	9.7“
水冷	可选	可选	可选	是	可选